溅射镀膜
用高能粒子轰击固体外面时能使固体外面的粒子得到能量并逸出外面，堆积在基片上。溅射征象于1870年开始用于镀膜技巧，1930年今后因为进步了堆积速率而渐渐用于工业生产。罕用的二极溅射装备如图3[
二极溅射示意图]。平日将欲堆积的资料制成板材--靶,牢固在阴极上。基片置于正对靶面的阳极上,距靶几厘米。体系抽至高真空后充入
10～1帕的气体（平日为气），在阴极和阳极间加几千伏电压，南北极间即发生辉光放电。
金属层如镁和氟化物沉积在被涂覆的物体上(称为基底)。根据层的数量和厚度、材料类型和所用的涂层工艺，可以确定反射或折射的程度。与无涂层产品不同，光学涂层使产品能够以不同的方式反射光线。涂层通常是通过使用由技术人员操作的机器来完成的，技术人员对机器过程进行编程或监督。一些机器执行自动化过程，不需要仔细监督。
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